|
КонденсаторыКонденсаторы являются широко распространенными элементами гибридных микросхем. Пленочный конденсатор представляет собой последовательно нанесенные на подложку и друг на друга пленки проводника и диэлектрика. Такая конструкция пленочных конденсаторов делает их более сложными элементами микросборок по сравнению с резисторами. Применение многослойных конденсаторов с большим числом обкладок приводит к усложнению технологии, снижению надежности, электрической прочности конденсаторов и повышение их стоимости. Поэтому в пленочных микросборках в основном применяются лишь трехслойные конденсаторы. Все характеристики пленочных конденсаторов зависят от выбранных материалов. Диэлектрическая пленка должна иметь высокую адгезию к подложке и металлическим обкладкам, обладать высокой электрической прочностью и малыми диэлектрическими потерями и многими другими требованиями и характеристиками. Под наши номиналы конденсаторов более подходит боросиликатное стекло (ЕТО.035.015.ТУ) с удельной емкостью 150…400 пФ/мм2, диэлектрической проницаемостью e0 = 4, tgdд 0.1…0.15 102, электрической прочностью ЕПР = 300…400 В/мкм, ТКЕ 104 Мaeд = 0.36, daeд = 0.01, коэффициентом старения 10-5 Мкeд = 1, dкeд = 0.5. Также имеем технологические ограничения на размеры обкладок: Dl = Db = 0.005мм. – максимальное отклонение размеров обкладок, Мсо = 0.01 – среднее значение производственной относительной погрешности удельной емкости, dсо = 0.005 – половина поля рассеивания производственной относительной погрешности удельной емкости. Вычислим среднее значение относительной погрешности удельной емкости, Вызванной изменением температуры, Мcotb при верхней и Мcotn при нижней предельной температуре: % % (34) Среднее значение относительной погрешности емкости, вызванной изменением температуры (2.17; 2.18 [5]): (35) % % Половины полей рассеяния относительной погрешности предельной емкости, вызванной изменением температуры: % (36) Половины полей рассеяния относительной погрешности емкости, вызванной изменением температуры (2.20; 2.21 [5]): (37) % Среднее значение относительной погрешности удельной емкости, вызванной старением диэлектрической пленки: % (38) Среднее значение относительной погрешности емкости, вызванной старением диэлектрической пленки (2.23; 2.24 [5]): (39) % Половина поля рассеяния относительной погрешности удельной емкости, вызванной старением диэлектрической пленки: % (40) Половина полей рассеяния относительной погрешности емкости, вызванной старением диэлектрической пленки (2.26; 2.27 [5]): (41) % Найдем сумму средних значений относительных погрешностей: % (42) % (43) Введем коэффициент запаса на уход емкости под действием не учетных факторов: Определим допустимое значение половины поля рассеяния, производственной относительной погрешности активной площади: % % - минимальное значение двух предыдущих. Допустимый коэффициент формы активной площади конденсатора: (46) Коэффициент формы берем из условия 2.39 [5]: (47) К = 1. Определим максимальную удельную емкость, обусловленную заданным допуском на емкость по техническим параметрам: пФ/мм2 (48) Коэффициент запаса электрической прочности конденсатора принимаем равный 2: Определим максимальную удельную емкость, обусловленную электрической прочностью межслойного диэлектрика и рабочим напряжением: пФ/мм2 (49) мм. – минимальная толщина диэлектрика, тогда максимальная удельная емкость из допустимого уровня производственного брака: пФ/мм2 (50) Определим минимальную удельную емкость, приняв значение максимальной толщины диэлектрика: мм. Тогда: пФ/мм2 (51) Выберем удельную емкость из условия: (52) пФ/мм2 Определим соответствующую С0 толщину диэлектрика: мм. (53) Определим расчетную активную площадь конденсатора: мм2 (54) Определим расчетное значение длины и ширины верхней обкладки конденсатора при выбираем коэффициенте формы: мм. мм. (55) С учетом масштаба фото оригинала: мм. мм. h = 0.2 мм. – минимальное расстояние краем нижней и верхней обкладок, обусловленное выбранной технологией. Определим расчетное значение длины и ширины нижней обкладки конденсатора: мм. мм. (57) С учетом масштаба фото оригинала: мм. мм. мм. – минимальное расстояние между краем нижней обкладки и диэлектрическим слоем, обусловленное выбранной технологией. Определим расчетное значение длины и ширины диэлектрического слоя конденсатора: мм. мм. (59) С учетом масштаба фото оригинала: мм. мм. Определим площадь, занимаемую конденсатором: мм2 (61) Определим точность емкости сконструированного конденсатора. Для этого определим среднее значение относительной погрешности активной площади: (62) Определим среднее значение производственной погрешности: (63) определим поле рассеяния относительной погрешности активной площади: (64) Определим поле рассеяния производственной погрешности: (65) Определим положительное и отрицательное значение предельного отклонения емкости: (66) (67) Предельное отклонение емкости будет равно максимальному из этих значений: Проверим условие: Þ Как видно это условие выполняется, из этого следует, что выбранный материал нам подходит по своим характеристикам. Пользуясь этим расчетом рассчитываем остальные конденсаторы, а результаты запишим в таблицу №2. Таблица №2. | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
L1 |
B1 |
L2 |
B2 |
Lд |
Bд |
S |
SP |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
С1; C4 |
14.55 |
14.55 |
14.15 |
14.15 |
14.75 |
14.75 |
217.563 |
200 |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
С2; C5 |
7.15 |
7.15 |
6.75 |
6.75 |
7.35 |
7.35 |
54.022 |
45.333 |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
С3; C6 |
3.55 |
3.55 |
3.15 |
3.15 |
3.75 |
3.75 |
14.063 |
10 |
В ходе данного курсового проекта была разработана конструкция микросборки усилителя промежуточной частоты. Проведен расчет топологии микросборки (расчет пассивных элементов схемы и их расположения на подложке). Разработана маршрутная технология микросборки. Сделан анализ конструкции микросборки. Таким образом, все требования технического задания были выполнены.
1. Коледов Л.А. Конструирование и технология микросхем. Курсовое проектирование. М: «Высшая школа» 1984 г.
2. Парфенов О.Д. Технология микросхем М:«Высшая школа» 1986 г.
3. Сажин Б.Н. Конструирование пассивных элементов плёночных микросборок Рязань РРТИ 1987 г.
4. Сажин Б.Н. Фотолитография в технологии тонкоплёночных микросхем и микросборок Рязань РРТИ 1993 г.
5. Сёмин А.С. Конструирование пассивных элементов плёночных микросборок Рязань РРТИ 1983 г.
6. Сёмин А.С. Конструкция и технология микросхем Рязань РРТИ 1978 г.
7. Сёмин А.С. Конструкция и технология микросхем ч.1. Рязань РРТИ 1981 г.
8. Сёмин А.С. Конструкция и технология микросхем ч. 2. Рязань РРТИ 1981 г.
9. Сёмин А.С. Оформление конструкторской документации на плёночные микросборки Рязань РРТИ 1983 г.
10. Сёмин А.С. Методические указания к курсовому проекту по курсу «конструирование и расчет микросхем» Рязань РРТИ 1971 г.
Новости |
Мои настройки |
|
© 2009 Все права защищены.