|
г. Москва 2001 год Оглавление: | |||||||||
1. Исходные данные |
3 |
|
||||||||
2. Анализ исходных данных |
3 |
|
||||||||
3. Расчет физических параметров p- и n- областей |
3 |
|
||||||||
а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны |
3 |
|
||||||||
|
|
|
||||||||
б) собственная концентрация |
3 |
|
||||||||
в) положение уровня Ферми |
3 |
|
||||||||
г) концентрации основных и неосновных носителей заряда |
4 |
|
||||||||
д) удельные электропроводности p- и n- областей |
4 |
|
||||||||
е) коэффициенты диффузий электронов и дырок |
4 |
|
||||||||
ж) диффузионные длины электронов и дырок |
4 |
|
||||||||
|
|
|
||||||||
4. Расчет параметров p-n перехода |
4 |
|
||||||||
a) величина равновесного потенциального барьера |
4 |
|
||||||||
б) контактная разность потенциалов |
4 |
|
||||||||
в) ширина ОПЗ |
5 |
|
||||||||
г) барьерная ёмкость при нулевом смещении |
5 |
|
||||||||
д) тепловой обратный ток перехода |
5 |
|
||||||||
е) график ВФХ |
5 |
|
||||||||
ж) график ВАХ |
6, 7 |
|
||||||||
|
|
|
||||||||
5. Вывод |
7 |
|
||||||||
6. Литература |
8 |
|
1. Исходные данные
1) материал полупроводника – GaAs
2) тип p-n переход – резкий и несимметричный
3) тепловой обратный ток () – 0,1 мкА
4) барьерная ёмкость () – 1 пФ
5) площадь поперечного сечения ( S ) – 1 мм2
6) физические свойства полупроводника
Ширина запрещенной зоны, эВ
Подвижность при 300К, м2/В×с
Эффективная масса
Время жизни носителей заряда, с
Относительная диэлектрическая проницаемость
электронов
Дырок
электрона mn/me
дырки mp/me
1,42-8
0,85-8
0,04-8
0,067-8
0,082-8
10-8
13,1-8
2. Анализ исходных данных
1. Материал легирующих примесей:
а) S (сера) элемент VIA группы (не Me)
б) Pb (свинец) элемент IVA группы (Me)
2. Концентрации легирующих примесей: Nа=1017м -3, Nд=1019м -3
3. Температура (T) постоянна и равна 300К (вся примесь уже ионизирована)
4. – ширина запрещенной зоны
5. , – подвижность электронов и дырок
6. , – эффективная масса электрона и дырки
7. – время жизни носителей заряда
8. – относительная диэлектрическая проницаемость
3. Расчет физических параметров p- и n- областей
а) эффективные плотности состояний для зоны проводимости и валентной зоны
б) собственная концентрация
в) положение уровня Ферми
(рис. 1)
(рис. 2)
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(рис. 1)
(рис. 2)
г) концентрации основных и неосновных носителей заряда
д) удельные электропроводности p- и n- областей
е) коэффициенты диффузий электронов и дырок
ж) диффузионные длины электронов и дырок
4. Расчет параметров p-n перехода
a) величина равновесного потенциального барьера
б) контактная разность потенциалов
в) ширина ОПЗ (переход несимметричный à )
г) барьерная ёмкость при нулевом смещении
д) тепловой обратный ток перехода
е) график ВФХ
– общий вид функции для построения ВФХ
ж) график ВАХ
– общий вид функции для построения ВАХ
Ветвь обратного теплового тока (масштаб)
Ветвь прямого тока (масштаб)
Вывод. При заданных параметрах полупроводника полученные значения удовлетворяют физическим процессам:
- величина равновесного потенциального барьера () равна , что соответствует условию >0,7эВ
- барьерная емкость при нулевом смещении () равна 1,0112пФ т.е. соответствует заданному ( 1пФ )
- значение обратного теплового тока () равно 1,92×10-16А т.е. много меньше заданного ( 0,1мкА )
Литература:
1. Шадский В. А. Конспект лекций «Физические основы микроэлектроники»
2. Шадский В. А Методические указания к курсовой работе по курсу «ФОМ». Москва, 1996 г.
3. Епифанов Г. И. Физические основы микроэлектроники. Москва, «Советское радио», 1971 г.
Новости |
Мои настройки |
|
© 2009 Все права защищены.